北方華創(chuàng)(Naura)官方宣布，ICP等離子刻蝕機(jī)第1000腔交付儀式近日在北京亦莊基地舉行，NAURA刻蝕機(jī)研發(fā)團(tuán)隊(duì)見(jiàn)證了這一歷史性時(shí)刻。 

北方華創(chuàng)表示，這不僅是公司發(fā)展征程中的重要里程碑，更是國(guó)產(chǎn)刻蝕機(jī)在歷經(jīng)了20年自主創(chuàng)新后得到客戶廣泛認(rèn)可的重要標(biāo)志，未來(lái)會(huì)持續(xù)在等離子刻蝕ICP技術(shù)領(lǐng)域?qū)で蟾嗤黄啤?/p>

北方華創(chuàng)科技集團(tuán)股份有限公司成立于2001年，由北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司、北京北方微電子基地設(shè)備工藝研究中心有限責(zé)任公司戰(zhàn)略重組而成，是目前國(guó)內(nèi)集成電路高端工藝裝備的先進(jìn)企業(yè)。

北方華創(chuàng)成立后就開(kāi)始組建團(tuán)隊(duì)鉆研刻蝕技術(shù)，2004年第一臺(tái)設(shè)備成功起輝，2005年第一臺(tái)8英寸ICP刻蝕機(jī)在客戶端上線，并于2007年獲得國(guó)家科學(xué)技術(shù)進(jìn)步二等獎(jiǎng)。

目前，北方華創(chuàng)的刻蝕設(shè)備已經(jīng)覆蓋集成電路、LED、先進(jìn)封裝、功率半導(dǎo)體、MEMS微機(jī)電系統(tǒng)、化合物半導(dǎo)體、硅基微顯、分析儀器、功率器件、光通信器件等多個(gè)領(lǐng)域，硅刻蝕機(jī)已突破14nm技術(shù)，進(jìn)入主流芯片代工廠。

其中，12英寸ICP刻蝕機(jī)在實(shí)現(xiàn)客戶端28nm國(guó)產(chǎn)化替代，并在14/7nm SADP/SAQP、先進(jìn)存儲(chǔ)器、3D TSV等工藝應(yīng)用中發(fā)揮著重要作用。

所謂等離子干法刻蝕，就是利用等離子體進(jìn)行薄膜微細(xì)加工的技術(shù)，具有良好的各向異性、工藝可控性，廣泛應(yīng)用于微電子產(chǎn)品制造領(lǐng)域。

在典型的干法刻蝕工藝過(guò)程中，一種或多種氣體原子或分子混合于反應(yīng)腔室中，在外部能量作用下(如射頻、微波等)形成等離子體。

另外，很多人可能分不清光刻機(jī)、刻蝕機(jī)。最簡(jiǎn)單地說(shuō)，光刻機(jī)把電路圖投影到覆蓋有光刻膠的硅片上面，刻蝕機(jī)則是畫(huà)了電路圖的硅片上的多余電路圖腐蝕掉。

再打個(gè)比方，光刻機(jī)是照相機(jī)，刻蝕機(jī)就是顯影設(shè)備。