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眾所周知，在芯片的研發制作過程中，進入流片就意味著已經進入試產，而成功流片則表明，該款芯片已經通過試產的測試，并且全程零失誤，接下來就可以量產。也就意味著，三星的3nm芯片離大規模量產不遠了。
值得一提的是，如今三星和臺積電都在沖刺3nm制程，此前美國的IBM甚至公布制造出了2nm芯片?？傊谛酒冗M制程上，各國各巨頭都在你追我趕，唯恐落后。
那么我國在芯片領域的成果如何呢？我國芯片巨頭中芯國際CEO梁孟松曾官宣，中芯國際將于2021年4月風險試產7nm，當時此消息一出，國人為之沸騰。然而，一直到現在，關于7nm芯片的消息遲遲未有。主要原因是因為我國芯片制造仍然面臨一個難題，那就是制造高端芯片的EUV光刻機的缺位。由于老美的“芯片”禁令，我國無法獲取荷蘭阿斯麥的EUV光刻機，這也使得我國實現高端芯片制程充滿坎坷。
高端芯片因光刻機的缺位難以突破，然而，最近我國在中端芯片領域迎來一項重大突破。據6月23日IT之家消息，純國產的28nm芯片和14nm芯片即將實現量產。日前，環球網也證實了這一消息，國內電子信息研究所所長溫曉君明確表示，28nm和14nm國產芯片將正式進入量產階段，其中28nm將于今年實現量產，而14nm則將在明年量產。
當然國人興奮之余，也有不少人疑惑，臺積電、三星都在發展3nm了，我國14nm現在才突破值得高興嗎？
對此，我國龍芯總設計師胡偉武對外呼吁：“國內90%以上的產品其實都可以使用14nm以及28nm來滿足，目前這兩種工藝都已經夠用了。因此我們不必跟風，人家做5nm、3nm，我們不一定急著做。”
我國工程院院士吳漢明也公開對此表示：“芯片發展要做好打持久戰的準備，急是急不來的，要一步一步來，不可能一下子就達到100%的自給率，必須要腳踏實地走好每一步。”
吳院士認為，其實目前國內最需要的并不是7nm和5nm的先進芯片，而是28nm的成熟制程芯片，我們應該從實際需求出發，不要一味的攀比先進工藝。吳院士一番話可以說醍醐灌頂。
的確，對于如今光刻機缺位的國產半導體巨頭而言，突破14nm純國產制程已經算是巨大成功了。
也就是說短短三年時間，國產芯片在沒有國外技術支持的情況下從90nm直接跨度到14nm。我國芯片真正進入的中高端列，邁入新的篇章。這個好消息，讓國人看到了國產芯片的曙光，這背后是國產半導體整體實力的提升。
