3月3日晚,芯片代工廠商中芯國際發布公告稱,2021年2月1日,其與光刻機設備大廠阿斯麥(ASML)簽訂了批量設備采購協議,此協議的期限從原來的2018年1月1日至2020年12月31日,延長為從2018年1月1日至2021年12月31日。根據此批量采購協議,訂單總金額約12億美元(約合77億元人民幣),具體金額為1201598880美元。
中芯發出此公告,立即引起了市場關注。而受此消息影響,中芯的股價在3月4日開盤后震蕩拉升,盤中一度漲約5%,隨后漲幅有所回落,截至下午收盤,中芯的股價漲幅為1.09%,市值達4683·33億元人民幣(約合724億美元)。隨后,ASML官網就與中芯此次交易做出說明稱,中芯披露此訊息,乃是中芯按照港交所的規定所做的信息披露,對于阿斯麥公司而言,并非一件真正意義上的重要事件,兩家公司之間達成的協議采購產品屬于既有DUV光刻機產品。
從某種程度上而言,ASML之所以及時做出這樣的動作,是在厘清市場尤其關注的EUV(極紫外)光刻機訂單狀況,也罕見地強調了當前兩家公司之間達成采購協議僅限于DUV光刻機,深怕外界誤以為是ASML開始向中芯供貨EUV光刻機。
這是因為,第一,早在2018年之時,中芯就向ASML購買了一臺EUV光刻機,不過ASML至今未能交付。第二,根據目前網上已經傳開的消息,在新任副董事長蔣尚義的牽頭下,中芯已與阿斯麥就進口EUV光刻機進行談判。業內人士還認為,中芯之所以邀請蔣尚義加盟,原因之一是希望蔣尚義能助力中芯引進EUV光刻機設備,蔣尚義與ASML的關系相當好。“在蔣尚義的協助下,中芯至少可與ASML坐下來好好協商。”
實際上,中芯國際從2020年至今,先后多次公告設備采購情況,上游設備客戶包括美國應用材料、拉姆研究、日本東京電子和荷蘭ASML,設備采購金額合計達44.53億美元。
中芯在2020年的資本開支達到創紀錄的57億美元,2021年計劃資本開支43億美元,兩年累計資本開支高達100億美元,根據半導體設備采購金額占資本開支的70%-80%,以及光刻機占半導體設備的比例大約為20%左右,可以大致推算出,中芯兩年下來累計光刻機設備需求數量。
據ASML發布的業績公告,光刻機產品類包括i-Line、KrF、ArF i,ArF d和EUV等五大類,2020年,ASML的EUV光刻機單價超過1.5億美元/臺,ArF i的單價超過6000萬美元/臺,ArF d的單價約2000萬美元/臺,KrF的單價1000多萬美元/臺。而2020年,ASML整機銷售中,EUV光刻機共銷售31臺,在總收入占比43%,ArF i銷售68臺,在總收入占比38%。
對中芯而言,另一個重大利好消息是,美國已經準許本國設備廠商,向中芯供貨用于14nm及以上(14nm及28nm等成熟工藝)的設備。不僅如此,此前中芯一直申請但未通過的用于14nm晶圓外延生長的關鍵設備也獲得了供應許可。而對于10nm及以下先進工藝技術節點的出口許可,目前暫無進展。
中芯也已經在互動平臺上回應稱,公司會盡最大努力,持續攜手全球產業鏈伙伴,保證公司生產連續性及擴產規劃不受影響。雖然不確定性依然存在,但公司始終堅持依法合規經營,有信心保證公司短期內生產經營不受重大不利影響。
業界表示,中芯獲得用于14nm制程工藝及以上的設備供應,意味著其在先進制程工藝領域還將持續發力,并且持續享受14nm長工藝節點市場紅利。“中芯14nm及以上工藝節點的擴產將超出之前規劃,公司遠期的代工市場空間進一步打開。”
此前在中芯四季度業績說明會上,聯席CEO趙海軍表示,中芯預計2021年資本開支為43億美元(約合人民幣278.3億元),其中大部分用于成熟工藝擴產,小部分用于先進工藝,北京新合資項項目土建及其它。
而在產能規劃設計上,中芯計劃2021年12英寸產線擴產1萬片,8英寸產線擴產不少于4.5萬片。
趙海軍還表示,公司未來會謹慎擴充產能。自去年下半起,全球爆發晶圓代工產能短缺,加上年初三星奧斯汀工廠停電,導致芯片缺貨的狀況愈演愈烈,市場上漲價之聲不絕于耳,需求端逐漸恢復正常的前提下短期內供不應求無法緩解,芯片產能儼然成為晶圓廠今年業績的重要保證。
中芯與ASML達成延長供貨協議,無疑有助于中芯擴大產能,甚至有分析稱,中芯或將成為本輪全球芯片缺貨潮的受益者之一。集邦咨詢指出,2021年第一季全球晶圓代工市場需求旺盛,面對終端產品對芯片的需求居高不下,令晶圓代工產能持續處于供不應求狀態,預計今年第一季度全球前十大晶圓代工廠商的總營收年成長達20%。
事實上多家機構都預測,市場上缺芯的態勢將貫穿整個2021年,由于芯片產能提升需要時間,供需不平衡問題可能延續到2022年,在正常情況,晶圓廠擴產周期在12到24個月,在去年疫情對需求的沖擊下,各大晶圓廠都未及時調整擴產節奏,方正證券預期新一輪產能供給最早要到今年年底開出,真正可觀且有效的產能開出在2022年第二季度以后。








