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EUV光刻機(jī)雖然被譽(yù)為現(xiàn)代工藝的明珠，但是我國(guó)地大物博、人才濟(jì)濟(jì)，在幾十年前那么艱難的條件下，原子彈都可以造出來，為什么現(xiàn)在條件好了，反而在EUV光刻機(jī)被人卡了脖子呢？
清華大學(xué)發(fā)現(xiàn)新光源，中國(guó)EUV光刻機(jī)的研發(fā)縮短五年，扭轉(zhuǎn)乾坤
原因很簡(jiǎn)單，EUV光刻機(jī)的研發(fā)是一個(gè)系統(tǒng)工程，而且工程量十分龐大。
EUV光刻機(jī)元器件
兩年前，美國(guó)開始對(duì)華為制裁后，國(guó)內(nèi)部分企業(yè)就曾表示，將在5年內(nèi)研制出國(guó)產(chǎn)EUV光刻機(jī)。對(duì)于這個(gè)言論，美國(guó)科學(xué)院一院士很囂張地進(jìn)行了回應(yīng)：即便是中國(guó)拿到了EUV光刻機(jī)的圖紙，十年內(nèi)也造不出EUV光刻機(jī)。
美國(guó)這位院士的話，雖然說得很尖銳，甚至可以說刺痛了我們極其脆弱的玻璃心，但是其說的是實(shí)情。
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據(jù)ASML公司EUV光刻機(jī)工程師透露，EUV光刻機(jī)所需的元器件近10萬個(gè)，而且每件都代表著業(yè)內(nèi)的最高水準(zhǔn)，而且90％以上的元器件從別的國(guó)家采購(gòu)的，如美企的光源，德企的物鏡，瑞典企業(yè)的軸承，法企的閥件，日企的光學(xué)器材等等。而EUV光刻機(jī)所需的核心元器件，無一來自我國(guó)企業(yè)。
這一事實(shí)，證實(shí)了我國(guó)基礎(chǔ)工業(yè)與發(fā)達(dá)國(guó)家存在著一定的差距，盡管我們不愿意承認(rèn)，但這就是事實(shí)。
光刻機(jī)的工作原理
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世界上可以制造光刻機(jī)的企業(yè)有很多，如我國(guó)的光刻機(jī)制造巨頭上海微電子，今年即可交付28nm級(jí)的光刻機(jī)，但是，在所有制造光刻機(jī)的企業(yè)中，唯有ASML公司可以制造EUV光刻機(jī)。原因很簡(jiǎn)單，就是在于光刻機(jī)的工作原理。
光刻機(jī)是利用光源能量、形狀控制手段，將光束透過刻著集成線路圖的掩模，經(jīng)過光學(xué)補(bǔ)差后，將線路圖印在硅片上。其本質(zhì)就是對(duì)特定波長(zhǎng)的光源進(jìn)行高精度利用。
光刻機(jī)所使用的光源有激光、紫外光、深紫外光和極紫外光，而EUV所使用的就是極紫外光，因?yàn)樗牟ǘ巫銐蚨蹋哂懈玫某上裥Ч彩侵圃旄叨诵酒匾墓庠础?br />
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目前，僅ASML公司掌握了極紫外光，這也是他能壟斷EUV光刻機(jī)市場(chǎng)的最重要原因。
清華大學(xué)發(fā)現(xiàn)新光源，扭轉(zhuǎn)乾坤
隨著我國(guó)對(duì)EUV光刻機(jī)的深度研究，ASML公司對(duì)極紫外光的技術(shù)壟斷或?qū)⒊蔀闅v史。
近日，清華大學(xué)正式宣布，其物工系在研究新型加速器光源“穩(wěn)態(tài)微聚束”的過程中，發(fā)現(xiàn)一種新的粒子加速光源，波長(zhǎng)覆蓋太赫茲到極紫外波段，且這種光源的最直接應(yīng)用就是EUV光刻機(jī)。
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根據(jù)上文對(duì)EUV光刻機(jī)的分析，清華大學(xué)發(fā)現(xiàn)的這種光源如果能夠走出實(shí)驗(yàn)室，那么國(guó)產(chǎn)EUV光刻機(jī)的研發(fā)工作就完成了一半以上。
對(duì)于清華大學(xué)新光源的發(fā)展，不少業(yè)內(nèi)人士表示，中國(guó)EUV光刻機(jī)的研發(fā)工作至少縮短了五年。
