光刻機要來了

國產芯片半導體行業一直在努力自研，爭取將自主技術提升到國際水準。但在此之前，還是離不開從國外進口光刻機設備。我國自產的光刻機水準大概是在90nm到28nm，涉及光源為ArF，距離高端的EUV極紫外光源還有一定的距離。

在沒有取得高端技術突破前，從國外進口是最好的選擇。為了獲得ASML生產的光刻機，我國多家企業都花費了不少心思。

比如之前晶瑞股份從韓國SK海力士手中購買了一臺二手ASML光刻機，上海新陽購買的三臺光刻機也即將到位。不過需要注意的是，這些光刻機都不是最高端的EUV光刻機，制程大概是在中低端范疇，并且有不少是二手設備。

但是這一次全新的光刻機要來了，并且還是中高端的DUV光刻機設備，遠勝之前其余企業采購的設備。

由國內芯片巨頭中芯國際豪擲78億元，向ASML采購了DUV光刻機設備。據悉，中芯國際花費了12億美元（約78億元人民幣）和ASML簽訂了采購協議，雙方就DUV光刻機展開交易。

這筆交易是不受美國影響的，相信很快這些光刻機就要來了。而且光刻機到貨的意義也十分重大。

光刻機到貨的意義

或許有人質疑，這次中芯國際采購的光刻機又不是最先進的EUV光刻機，還有必要花這么多錢嗎？事實并非如此。

就目前為止，即便到貨了EUV光刻機，以國內企業掌握的技術，也無法用EUV光刻機制造5nm芯片。因為不具備高端芯片工藝制程技術，而DUV光刻機已經是能夠使用的最高技術設備了。

所以有了這些光刻機，能夠生產出當前掌握的技術工藝芯片，包括14nm，12nm和更進一步的7nm。

這第一個意義就在于此，保證成熟工藝芯片的生產。另外順利的話，中芯國際計劃在4月份試產7nm，靠DUV光刻機就有一定的條件實現。

第二個意義是擴產，中芯國際在2021年期間會繼續擴產芯片生產線，這就需要更多的光刻機支持。目前中芯國際在上海新建一座12英寸晶圓廠，也在北京投資了500億元，破土動工造晶圓廠。

隨著未來這些工廠的建廠，還有光刻機的到貨，中芯國際的產能會進一步提升。從而占據更多的市場份額。

總的來看，中芯國際未來到貨光刻機的意義分別在保障工藝和擴建產能，兩大意義都至關重要。

中芯國際代表我國最強的芯片制造水準，是國內唯一能量產14nm制程芯片的龍頭企業。如今豪擲78億元進購DUV光刻機，證明了中國芯正加速前行。

有關注的人就知道，我國已經加大對半導體產業的扶持力度，要攻克光刻機，芯片等技術難題。

不僅有中科院入局光刻機，還有定下了70%芯片自給率的目標?，F如今中芯國際耗費數十億購買光刻機，未來隨著芯片產能的增加，實現定下的芯片自給率目標無疑又更進一步。

全球半導體都在迎來變局，我國同樣沒有懈怠。之前有90家中企聯合成立全國集成電路技術委員會，后來又有在基帶、AI、云服務、SOC集成芯片等領域傳來突破的好消息。

中國芯正加速前行，期待中芯國際購買的光刻機能早日到貨，投入生產。