離子注入機獲得突破，外資不再獨大

就在中國芯片被美國政府“卡脖子”之后，許多芯片產業以及半導體產業中的一些專有名詞，也走進了中國人民的生活當中，在過去的很長一段時間里，我們在各種報道中都知道，對于芯片制造而言，先進的光刻機將會是，孵化最先進芯片的溫室，其中荷蘭ASML公司所掌握的極紫外光刻，既EUV光科技就是光刻機當中世界最頂尖的產品，不過除了光刻機之外，離子注入機也是很關鍵的一個設備，而該設備也長期被外資公司獨立掌握著，中國即使有錢也是買不到的。

 

不過就在最近，中國電子科技集團方面就傳來了一個好消息，其旗下的科研部門在經過了不懈努力之后，終于在離子注入機的關鍵技術領域獲得了突破，而這也意味著中國的離子注入機將會在不久之后問世，可以說，如果沒有這一型制造設備，那么中國即使是能夠排除所有的困難，獲得一臺EUV光刻機，那么該光刻機也只能是一個擺設，根本無法投入生產。所以中國企業在關鍵技術領域的突破，就顯得是那么的重要了，而這一次外資也不再是獨到的那一個了，美國即使想在該問題上阻攔中國也是不可能的了。

 

認清現實，我們還有很多路要走

中國企業在關鍵技術領域的突破是十分喜人的，也是十分值得慶祝的，但是很多事實也是們必須要認識到，首先在芯片制造領域，中國還只能停留在20nm左右的水平上，而目前，世界頂尖的芯片制造商和代工廠如臺積電這樣的企業，其是可以生產5nm和4nm，這樣的優質芯片的，由此我們也可以知道現目前中國與世界的差距還是很大的。

掌握技術與將技術運用到生產當中其實是兩回事，我們現目前完成了技術攻關，如何將技術安全應用到芯片制造上，以及提高產品的良品率、降低成本等這些都是未來我國在半導體以及芯片生產領域的主要需要解決的問題，由此我們可以知道，我們需要走的路，其實還有很長。

 

我們即將要開啟奮斗之路

就像我國的外事辦公室主任楊潔篪主任所說的那樣，我們中國人是聰明的，外國對我國的技術封鎖在客觀上確實會阻礙中國的發展，但是如果我們別無選擇，那么我們就只能努力地去突破現有的極限了，發達國家可以享受到的，方便的、現代化的生活，中國人也可以享受到，因此對于我們而言，奮斗一定是值得的。