清華大學傳來新消息

清華大學是國內最高等的學府，也是擁有強大科研能力的團隊，每年都能攻克很多技術上的難題。而對于如今國內最為重視的半導體芯片行業，清華大學也有一定的研究，雖然無法幫助國產芯片解決所有問題，但是卻取得了一些了不起的成就。

舉個簡單的例子，國內華為公司的創始人任正非曾經到訪過清華大學，并且對他們的研發工作贊不絕口。要知道，華為可以說是國內半導體行業最頂尖的企業，其眼光和要求肯定要比別的公司高，清華大學能得到它的認可足以說明一切。

而更重要的是，最近清華大學傳來新消息，事關光刻機核心技術，如果運用得當或者說將其變成現實，那么一直困擾著國內的光刻機難題就不是事了。光刻機和芯片的關系相信大家都很清楚，沒有光刻機，任何芯片的生產工作都無法正常進行。

從某種意義上來說，我們國內的芯片事業之所以遲遲無法崛起，就是因為缺少光刻機，無論是普通的還是高端的，國內的光刻機數量都滿足不了芯片產業的發展。更有甚者， 全球最領先的光刻機廠商ASML還因為美國的影響，無法自由地向國內出貨。

如此一來，國產光刻機的突破就成為了迫在眉睫的任務，此前華為和中科院已經作出了相關決定。但必須要知道的是，光刻機被譽為“人類工業皇冠上的明珠”，其技術難度和復雜程度遠遠超出了普通人的想象，不是短時間內就能徹底攻克的。

但是隨著清華大學好消息的傳來，讓國內對光刻機的研發多了一分把握，或許會成為全面突破的契機。這個好消息的具體內容是，清華大學的科研團隊研究出了一種新型的光源技術，專業名稱叫做穩態微聚束光源，可以實現不同波長和頻率的光源轉換。

據了解，利用清華大學的成果，國內對光源技術的掌握最高可以達到EUV階段，也就是極紫外光。要知道，目前ASML最先進的EUV光刻機使用的是就是EUV光源，而現在我們國內也到了這個階段，相當于在光刻機領域邁出了一大步。

而且光源對于光刻機而言，可以說是最關鍵的核心技術，雖然掌握了EUV光源并不代表一定能生產出EUV光刻機，但是卻可以少走很多彎路，加快進步的腳步。所以說，清華大學的研究成果具有非常重要的意義，有望幫助國產光刻機盡早實現崛起！

比爾蓋茨說對了

光刻機和芯片都是如今國內必須要逐步攻克的核心技術，盡管之前國內在這兩方面一直處于落后的局面，但是在眾多國產企業和相關機構的努力鉆研下，未來國內的芯片事業肯定會不斷地向前進步，直到徹底趕超先進水平。

從上述的情況中不難看出，目前國內的芯片產業正在有條不紊地進行著， 每一次突破都會讓其發展壯大。對此，很多人都表示，比爾蓋茨說對了？難道美國制定所謂的芯片規則，真的變成了促進國產芯片崛起的動力？

在美國規則生效之后，前世界首富比爾蓋茨曾經說過，所謂的規則不會給美國公司帶來任何好處，反而會加快中國芯片的自主化進程。等到中國完全實現芯片的自給自足，美國企業就會遭受嚴重的損失。

當時大多數人都覺得比爾蓋茨是在闡述一些不可測的未來，但是現在看來，比爾蓋茨說得沒錯，國產芯片正在朝著崛起的方向前進，美國的規則已經產生了相反的作用。只要繼續保持這樣的狀態，將來國內就會代替美國成為新的芯片基地，掌握更大的話語權。