清華大學傳來好消息

如果要問二十一世紀國內最重視的科學技術是什么，那么答案肯定非半導體芯片莫屬。因為芯片是信息時代發展進步的基石，在各行各業都能發揮出重要的作用，而且我們國內對芯片的研究還沒有達到頂尖水準，隨著外界因素的影響，必須要加快前進的腳步。

相信大家都知道，自從去年九月份所謂的芯片規則正式生效之后，華為和其它國產半導體公司就面臨著一系列的缺芯問題。這很好地反映出了國內在芯片制造領域的不足，雖然華為等公司有著出色的芯片設計能力，但是卻無法將其轉化成實打實的芯片。

簡而言之，國內能設計出先進的芯片，卻生產不出來，時至今日仍然對芯片進口存在一定的依賴。顯然，這種依賴是國內必須要攻克的難題，因為美國就是憑借著強大的芯片出口業務才成為半導體市場中的主導國。

那么國內為什么遲遲無法突破芯片制造技術呢？其實這個問題的答案很簡單，與其說芯片制造能力不足，不如說國內在光刻機方面處于被動局勢。因為國內正是由于缺少高端光刻機的支持，才無法媲美最先進的水平，這是國產芯片代工廠最大的短板。

光刻機于芯片的關系就不多說了，用一句話來概括就是：沒有光刻機，就生產不出任何芯片，而高端芯片往往需要頂尖的光刻機。目前，全球范圍內只有荷蘭的ASML公司能夠生產出高端的EUV光刻機，而它卻不能向國內自由出貨，這就造成了國內先進芯片制造領域的空白。

不過，最近根據國內媒體報道稱， 清華大學傳來消息，光刻機關鍵技術獲突破，有望幫助國產光刻機實現自主化的目標。這個消息的具體內容是，清華大學的科研團隊研發出了一種新型光源技術，名為加速器光源“穩態微聚束”，可實現不同波長的光源覆蓋。

也就是說，有了清華大學的研究成果，國內就不用再擔心解決不了EUV光刻機的光源問題了。而光源對于EUV光刻機而言，可以說是最核心的組成部分，只要光源的波長和頻率滿足了相應的要求，國內對EUV光刻機的研發就會變得簡單一些。

有人曾說，光刻機是人類工業機器的巔峰代表，而EUV光刻機更是巔峰中的巔峰。這種說法不是夸大其詞，而是真實情況的寫照，因為EUV光刻機的生產難度確實超出了普通人的想象。

但是現在看來，國內已經在EUV光刻機領域取得了重大突破，只要光源保持穩定，或許要不了多久國內就能追趕上ASML公司的角度。這對于國產芯片事業而言，無疑是一個非常好的消息，或將成為中國芯崛起的“催化劑”！

芯片超車正在上演

從清華大學傳來的好消息中不難看出，國內的芯片超車正在上演，如果按照現在這個趨勢發展下去，那么將來國內很有可能成為新的芯片基地。要知道，如今國內的芯片進口總額已經超過了石油，如何實現芯片的自主化生產就成為了最要緊的任務。

再加上華為等國產半導體公司的缺芯現狀，更是讓國內不得不走上自主造芯的道路，而光刻機是必須要邁過去的一道坎。可能以前很多人都不認為國內能攻克光刻機的難題，畢竟這么多年來全世界就只有ASML這一家頂尖的光刻機生產商。

但是清華大學卻用實際行動打破了這個不可能，待到光源技術完全成熟之后，國內就可以逐步進軍EUV光刻機市場，屆時ASML的產品將變成“白菜價”！